DOI: 10.22184/NanoRus.2019.12.89.539.542

Рассмотрены особенности процессов объемной и поверхностной химической обработки пластин и формирование фоторезистивной маски при создании МЭМС. Определены требования, предъявляемые к технологическому оборудованию. Представлены конструктивные решения специального технологического оборудования для изготовлении МЭМС.

sitemap

Разработка: студия Green Art