DOI: https://doi.org/10.22184/1993-8578.2025.18.1.8.15

В данной работе методом динамического рассеяния света исследован процесс изменения ζ-потенциала и размеров частиц ниосомальных дисперсий различных концентраций при варьировании температуры. Выявлены изменения среднего диаметра ниосом и индекса полидисперсности. Наиболее существенное влияние температуры на рассматриваемые параметры наблюдалось в интервале 303–313 К. Экспериментальные данные свидетельствовали об увеличении дзета-потенциала с повышением температуры. На основании проведенного анализа подтверждена возможность повышения устойчивости ниосомальных дисперсий с помощью температурного воздействия.