Наноиндустрия - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2026
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)

Книги по нанотехнологиям

Тег "photoresist"

Наноиндустрия #7-8/2018
К.Ракетов, Н.Израилев, А.Казачков, Е.Заблоцкая, И.Род, М.Рябков, А.Исаченко, Д.Шамирян
Об автоматизированной системе детектирования дефектов на МЭМС-производстве

Системы контроля продукции на различных технологических стадиях играют ключевую роль в обеспечении производства, улучшении производственных процессов и сокращении производственных потерь. В МЭМС-производстве для этого используется автоматизированная оптическая инспекция, создающая массив изображений, требующих обработки и анализа. В статье представлены результаты внедрения в ООО "МАППЕР" автоматизированной системы детектирования дефектов литографии, базирующейся на ПО для обработки изображений, разработанном ООО "АКСАЛИТ Софт". DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.7-8.542.548

Электроника НТБ #3/2018
А. Скупов
Формирование микровыводов припоя на уровне пластины

Рассмотрено формирование выводов припоя для соединения кристалла полупроводниковой микросхемы с контактными площадками корпуса или платы. Отмечено, что правильный выбор технологических материалов исключительно важен для получения надежных и качественных выводов. УДК 621.382 | ВАК 05.27.06 DOI: 10.22184/1992-4178.2018.174.3.112.115