eng
В июле в технополисе "Москва" состоялся торжественный запуск линии по производству МЭМС на дочернем предприятии голландской компании Mapper Lithography. Соинвестором проекта выступила корпорация "Роснано", вложившая в развитие разработанной Mapper Lithography уникальной технологии электронно-лучевой (безмасочной) литографии 40 млн. евро. При этом инвестиции в создание нового предприятия составили около 1 млрд. рублей. Об истории, сегодняшнем дне и планах по развитию проекта рассказал генеральный директор компании "Маппер" Андрей Васильевич Малышев.
Андрей Васильевич, расскажите, пожалуйста, о предыстории создания дочернего предприятия Mapper Lithography в России.
Mapper Lithography была основана в 2001 году в Нидерландах для коммерциализации технологии безмасочной электронно-лучевой литографии, разработанной в Делфтском техническом университете. Компания активно искала инвесторов, и в 2012 году возник проект с корпорацией "Роснано", выделившей необходимые средства с условием создания производственного предприятия в России. Наша компания выпускает электронные компоненты для безмасочных литографических систем Mapper Lithography, в частности, МЭМС для электронной оптики, которые являются одними из ключевых элементов этого оборудования. Мы будем обеспечивать элементами электронной оптики все потребности головного производства, базирующегося в Нидерландах.
Каковы преимущества технологии, предложенной Mapper Lithography, и на какой стадии разработки она находится?
Эта технология позволяет производить электронные компоненты без использования дорогостоящих масок. От других систем электронно-лучевой литографии ее отличает применение многолучевого экспонирования multiple e-beam, при котором исходный мощный электронный пучок разделяется на множество частей, управляемых электростатическими линзами на базе МЭМС. Такое решение существенно повышает скорость процесса. Принцип управления пучками электронов можно сравнить со всем хорошо известными электронно-лучевыми трубками.
Безмасочная технология пригодна для производства всей номенклатуры электронных компонентов и обеспечивает разрешение 22 нм. На современной стадии развития технологии число лучей составляет 13,3 тыс., что должно обеспечить запись до 10 пластин диаметром 300 мм в час. Оговорюсь, что пока тестирование выполняется при пониженной мощности с производительностью 1 пластина/час.
Для развития многолучевой безмасочной литографии был создан консорциум IMAGINE, в который помимо Mapper Lithography вошли французский научно-исследовательский институт микроэлектроники CEA-Leti, а также крупные производители микроэлектроники TSMC (Тайвань) и STMicroelectronics (Франция). В настоящее время созданы два прототипа промышленной установки – один проходит испытания на предприятии Mapper Lithography в Нидерландах, другой – в институте CEA-Leti. Оборудование находится на завершающей стадии тестирования и в 2015 году планируется начать его коммерческий выпуск.
На какие сегменты рынка ориентирована разработка Mapper Lithography?
Технология предназначена для серийного производства электронных компонентов. Это могут быть заказы на специальную электронику или, например, пробные партии новых продуктов. Отказ от использования масок обеспечивает существенный экономический эффект, причем чем меньше размер партии, тем рентабельнее безмасочная технология. Разработчики новых продуктов получают возможность с минимальными материальными и временными затратами проверять разные варианты конструкции элементов. К этому следует добавить отсутствие рисков, связанных с ошибками при заказе и изготовлении масок.
Ожидается, что стоимость одной установки от Mapper Lithography составит около 10 млн. долл., что существенно меньше, чем стоимость комплекса для традиционной фотолитографии. Кроме того, электронно-лучевые литографы значительно компактнее и дешевле в эксплуатации, чем системы оптической литографии.
Производительность установок безмасочного многолучевого экспонирования при необходимости может быть увеличена путем соединения нескольких модулей. Например, рассматривается возможность создания систем, объединяющих 10 модулей, с общей производительностью 100 пластин диаметром 300 мм в час.
Как оцениваются перспективы Mapper Lithography на рынке литографического оборудования?
Ежегодно в мире продается около 310–350 литографических систем общей стоимостью около 10 млрд. долл. Mapper Lithography планирует поставлять до 20 установок в год, – исходя из этих объемов рассчитывалась производственная мощность нашего предприятия.
Расскажите, пожалуйста, о московской производственной площадке Mapper Lithography – компании "Маппер".
Наше предприятие имеет площадь около 2 тыс. м2, причем более половины из них занимают чистые помещения. Хотелось бы отметить удобство технополиса "Москва", предоставившего всю необходимую для создания производства инфраструктуру. Во многом благодаря этому на запуск первой очереди производства – от начала подготовки помещений до выпуска первых партий продукции потребовалось всего 9 месяцев.
Производство высоко автоматизировано и оснащено современным оборудованием. Помимо фотолитографии, используются такие технологии, как плазмохимическое травление в плазме кислорода, реактивное ионное травление, глубокое травление кремния (Bosch-процесс), плазмохимическое газофазное осаждение, ионно-лучевое осаждение. Многоступенчатый контроль качества обеспечивает точное соответствие характеристик готовой продукции спецификациям. В частности, специально разработанные Mapper Lithography метрологические системы используются для контроля геометрии (Hyper), электронно-оптических свойств (Stigmatix) и окончательной чистоты (Particlix) выпускаемой продукции.
Пока производство не вышло на проектную мощность, но к концу года планируется запустить весь комплекс оборудования. Мы начали с выпуска так называемых спейсеров, предназначенных для разделения элементов электронной оптики, затем нами планируется освоить изготовление электронных линз для фокусировки и коллимации пучков электронов, а в 2015 году начнем производить МЭМС, содержащие электронику управляющих электродов. В 2014 году мы планируем произвести около 200 компонентов, в следующем году – до 1000 компонентов.
Большое внимание уделяется подбору и подготовке кадров. Производственный персонал прошел многомесячное обучение на головном производстве в Нидерландах. В компанию привлечены опытные специалисты, сотрудничавшие с ведущими международными компаниями микроэлектронной отрасли, в частности, технический директор Денис Шамирян около 15 лет проработавший в корпорациях IMEC и Global Foundries.
Ваше предприятие будет загружено исключительно заказами Mapper Lithography или рассчитываете работать и с другими компаниями?
Мы можем изготавливать МЭМС разных типов, располагаем свободными производственными мощностями и, разумеется, будем стараться загрузить их заказами от разных компаний. Уверен, что российские заказчики по достоинству оценят наши технологические возможности и культуру производства.
Спасибо за интересный рассказ.
С А.В.Малышевым беседовал
Д.Ю.Гудилин
Mapper Lithography была основана в 2001 году в Нидерландах для коммерциализации технологии безмасочной электронно-лучевой литографии, разработанной в Делфтском техническом университете. Компания активно искала инвесторов, и в 2012 году возник проект с корпорацией "Роснано", выделившей необходимые средства с условием создания производственного предприятия в России. Наша компания выпускает электронные компоненты для безмасочных литографических систем Mapper Lithography, в частности, МЭМС для электронной оптики, которые являются одними из ключевых элементов этого оборудования. Мы будем обеспечивать элементами электронной оптики все потребности головного производства, базирующегося в Нидерландах.
Каковы преимущества технологии, предложенной Mapper Lithography, и на какой стадии разработки она находится?
Эта технология позволяет производить электронные компоненты без использования дорогостоящих масок. От других систем электронно-лучевой литографии ее отличает применение многолучевого экспонирования multiple e-beam, при котором исходный мощный электронный пучок разделяется на множество частей, управляемых электростатическими линзами на базе МЭМС. Такое решение существенно повышает скорость процесса. Принцип управления пучками электронов можно сравнить со всем хорошо известными электронно-лучевыми трубками.
Безмасочная технология пригодна для производства всей номенклатуры электронных компонентов и обеспечивает разрешение 22 нм. На современной стадии развития технологии число лучей составляет 13,3 тыс., что должно обеспечить запись до 10 пластин диаметром 300 мм в час. Оговорюсь, что пока тестирование выполняется при пониженной мощности с производительностью 1 пластина/час.
Для развития многолучевой безмасочной литографии был создан консорциум IMAGINE, в который помимо Mapper Lithography вошли французский научно-исследовательский институт микроэлектроники CEA-Leti, а также крупные производители микроэлектроники TSMC (Тайвань) и STMicroelectronics (Франция). В настоящее время созданы два прототипа промышленной установки – один проходит испытания на предприятии Mapper Lithography в Нидерландах, другой – в институте CEA-Leti. Оборудование находится на завершающей стадии тестирования и в 2015 году планируется начать его коммерческий выпуск.
На какие сегменты рынка ориентирована разработка Mapper Lithography?
Технология предназначена для серийного производства электронных компонентов. Это могут быть заказы на специальную электронику или, например, пробные партии новых продуктов. Отказ от использования масок обеспечивает существенный экономический эффект, причем чем меньше размер партии, тем рентабельнее безмасочная технология. Разработчики новых продуктов получают возможность с минимальными материальными и временными затратами проверять разные варианты конструкции элементов. К этому следует добавить отсутствие рисков, связанных с ошибками при заказе и изготовлении масок.
Ожидается, что стоимость одной установки от Mapper Lithography составит около 10 млн. долл., что существенно меньше, чем стоимость комплекса для традиционной фотолитографии. Кроме того, электронно-лучевые литографы значительно компактнее и дешевле в эксплуатации, чем системы оптической литографии.
Производительность установок безмасочного многолучевого экспонирования при необходимости может быть увеличена путем соединения нескольких модулей. Например, рассматривается возможность создания систем, объединяющих 10 модулей, с общей производительностью 100 пластин диаметром 300 мм в час.
Как оцениваются перспективы Mapper Lithography на рынке литографического оборудования?
Ежегодно в мире продается около 310–350 литографических систем общей стоимостью около 10 млрд. долл. Mapper Lithography планирует поставлять до 20 установок в год, – исходя из этих объемов рассчитывалась производственная мощность нашего предприятия.
Расскажите, пожалуйста, о московской производственной площадке Mapper Lithography – компании "Маппер".
Наше предприятие имеет площадь около 2 тыс. м2, причем более половины из них занимают чистые помещения. Хотелось бы отметить удобство технополиса "Москва", предоставившего всю необходимую для создания производства инфраструктуру. Во многом благодаря этому на запуск первой очереди производства – от начала подготовки помещений до выпуска первых партий продукции потребовалось всего 9 месяцев.
Производство высоко автоматизировано и оснащено современным оборудованием. Помимо фотолитографии, используются такие технологии, как плазмохимическое травление в плазме кислорода, реактивное ионное травление, глубокое травление кремния (Bosch-процесс), плазмохимическое газофазное осаждение, ионно-лучевое осаждение. Многоступенчатый контроль качества обеспечивает точное соответствие характеристик готовой продукции спецификациям. В частности, специально разработанные Mapper Lithography метрологические системы используются для контроля геометрии (Hyper), электронно-оптических свойств (Stigmatix) и окончательной чистоты (Particlix) выпускаемой продукции.
Пока производство не вышло на проектную мощность, но к концу года планируется запустить весь комплекс оборудования. Мы начали с выпуска так называемых спейсеров, предназначенных для разделения элементов электронной оптики, затем нами планируется освоить изготовление электронных линз для фокусировки и коллимации пучков электронов, а в 2015 году начнем производить МЭМС, содержащие электронику управляющих электродов. В 2014 году мы планируем произвести около 200 компонентов, в следующем году – до 1000 компонентов.
Большое внимание уделяется подбору и подготовке кадров. Производственный персонал прошел многомесячное обучение на головном производстве в Нидерландах. В компанию привлечены опытные специалисты, сотрудничавшие с ведущими международными компаниями микроэлектронной отрасли, в частности, технический директор Денис Шамирян около 15 лет проработавший в корпорациях IMEC и Global Foundries.
Ваше предприятие будет загружено исключительно заказами Mapper Lithography или рассчитываете работать и с другими компаниями?
Мы можем изготавливать МЭМС разных типов, располагаем свободными производственными мощностями и, разумеется, будем стараться загрузить их заказами от разных компаний. Уверен, что российские заказчики по достоинству оценят наши технологические возможности и культуру производства.
Спасибо за интересный рассказ.
С А.В.Малышевым беседовал
Д.Ю.Гудилин
Отзывы читателей
