eng
Выпуск #4/2017
С.Нестеров
Десять лучших инновационных продуктов выставки VacuumTechExpo 2017
Десять лучших инновационных продуктов выставки VacuumTechExpo 2017
Просмотры: 1182
Как уже сообщалось, в рамках XII международной выставки вакуумного оборудования VacuumTechExpo 2017, которая состоялась с 11 по 13 апреля в Москве, проводился конкурс "За лучший инновационный продукт в сфере высоких технологий". Победителями конкурса стали 10 инновационных продуктов, которые отражают современный уровень и тенденции развития мировой и отечественной вакуумной техники и технологии.
DOI: 10.22184/1993-8578.2017.75.4.30.34
DOI: 10.22184/1993-8578.2017.75.4.30.34
Инновационный продукт – результат инновационной деятельности, получивший практическую реализацию в виде нового товара, услуги, способа производства (технологии) или иного общественно полезного результата. Расскажем более подробно о победителях конкурса.
Линейка диффузионных вакуумных насосов DiJ
(АО "Вакууммаш", Казань)
Диффузионные насосы нового поколения способны устойчиво работать и обеспечивать максимальный поток откачиваемого газа при входном давлении 1 · 10–3 мм рт. ст. Линейка диффузионных вакуумных насосов будет включать следующие типоразмеры: 10, 16, 20, 35 дюймов и 320, 500, 630, 1 000 мм. Уже выпускаются насосы DiJ 20 и DiJ 630, разработан и проходит испытания насос DiJ 35.
В насосах DiJ использованы геометрия котла, позволяющая применять минимальное количество рабочей жидкости, а также новая конструкция устройства для залива и слива рабочей жидкости. Замена нагревательных элементов может выполняться непосредственно на месте установки насоса. Предусмотрен визуальный контроль уровня рабочей жидкости в котле насоса. Опытные образцы всей линейки насосов DiJ планируется изготовить в 2017 году с последующим освоением серийного производства.
Турбомолекулярный насос Edwards nEXT85
(АО "Интек Аналитика", Санкт-Петербург)
Турбомолекулярный насос nEXT85 сконструирован на основе технологий, опробованных в модели EXT75DX, что позволило значительно повысить производительность при более компактном исполнении. Ротор был заново спроектирован для достижения лучших показателей быстродействия и более высокого коэффициента компрессии. При этом удалось сохранить высокий уровень надежности оборудования.
Помимо улучшенной производительности, nEXT85 обладает такими же преимуществами, как и крупногабаритные насосы серии nEXT, а именно возможностью сервисного обслуживания на месте работы и наличием встроенного контроллера.
Особенности nEXT85:
• высокая производительность при компактном исполнении;
• доступность как стандартной модели, так и модели "H" с высоким коэффициентом компрессии;
• увеличенный рабочий диапазон за счет запатентованной Edwards технологии прямого измерения температуры рабочего колеса;
• выбор положения промежуточного и выпускного порта на усмотрение заказчика, что обеспечивает дополнительную гибкость при работе;
• четырехлетний период сервисного обслуживания с возможностью его проведения на месте эксплуатации;
• амортизированный плоской пружиной шарикоподшипник обеспечивает низкий уровень вибраций;
• насосы со встроенным контроллером оснащены портом microUSB и программным обеспечением EdwardsnST, что позволяет выполнять мониторинг, контроль и конфигурацию оборудования;
• доступность комплекта специализированных принадлежностей.
Течеискатель гелиевый Shimadzu MSE-2200S (ГК "Криосистемы", Москва)
Гелиевый течеискатель MSE-2200S представляет собой газоанализатор с электронной и откачной системами, размещенными в едином корпусе. Система откачки состоит из высоковакуумного турбомолекулярного насоса (70 л/с) и пластинчато-роторного насоса (30 л/мин).
Течеискатель MSE-2200S укомплектован уникальным газоанализатором с поворотом пучка на 270° для достижения сверхвысокого уровня чувствительности 1 · 10–13 Па · м3/с [He] и низкого фонового шума, а также специально разработанным турбомолекулярным насосом с быстротой действия 3 л/с по гелию на входном фланце во всем диапазоне давлений.
Стабильный фоновый уровень в MSE-2200S достигается сразу же после включения в результате точного отделения молекул воды и водорода от молекул гелия. Быстрое восстановление работоспособности после возникновения высокого фонового уровня (в частности, большой утечки) достигается за счет оригинальной схемы включения специального гибридного насоса с промежуточным вводом потока между турбомолекулярной и молекулярной ступенями.
Все течеискатели Shimadzu работают в режиме противотока, благодаря чему обеспечиваются низкий фоновый уровень, отсутствие попадания загрязнений в трубку анализатора, а также защита в случае прорыва атмосферы. Течеискатель может комплектоваться беспроводным пультом управления, щупами (скорость отклика 3 или 1 с), тележкой для перемещения и другими опциями.
Вакуумная арматура KF (ООО "Вактрон", Санкт-Петербург)
Специалисты компании "Вактрон" начали производство в Санкт-Петербурге вакуумной арматуры стандарта ISO KF. Изготавливаются такие элементы, как центрирующие кольца, заглушки, угловые патрубки, фланцы под cварку, адаптеры, тройники, кресты и переходники на другие стандарты.
Вся продукция проверяется на герметичность с помощью гелиевого масс-спектрометрического течеискателя специалистами, аттестованными согласно ПБ 03-440-02. Заключение о проверке на герметичность можно получить на каждое изделие, что гарантирует главное свойство вакуумной арматуры – способность изолировать рабочий объем от проникания атмосферных газов.
Расположение производства в Санкт-Петербурге позволяет установить оптимальную цену на продукцию за счет отсутствия таможенных платежей. На складе производителя создан запас стандартных компонентов – вакуумных фланцев, тройников, патрубков. По запросу заказчика возможно оперативное изготовление вакуумных изделий специальной конструкции.
Вакуумная напылительная установка HELIOS
для изготовления датчиков (Бюлер Лейболд Оптикс, Москва)
С развитием интернет-коммуникации устройств –
так называемого "Интернета вещей" – растет необходимость в миниатюрных датчиках. Современная технология изготовления оптических датчиков заключается в производстве традиционных светофильтров на стекле, их нарезке и последующей наклейке на кремниевую пластину. Однако, качество, стабильность и эффективность, достижимые при таком методе, перестают удовлетворять растущим потребностям рынка. Поэтому эксперты "Бюлер Лейболд Оптикс" разработали и запатентовали технологический процесс нанесения фильтров непосредственно на кремниевые пластины. Зоны, в которых покрытия быть не должно, предварительно защищаются специальным составом, после чего в установке HELIOS на всю поверхность пластины наносится многослойное покрытие. Материалы распыляются в вакуумной камере магнетронным методом с ионно-плазменной поддержкой и осаждаются на подложке плотно упакованными слоями нанометровой толщины. Затем покрытие смывается с тех зон, где оно наносилось на защитный состав. Процесс может повторяться необходимое число раз. По окончании нанесения покрытия фильтры разделяются, оснащаются контактами и монтируются на печатные платы.
Если традиционные методы нанесения вакуумных покрытий обеспечивают толщину слоев не менее 10 нм, то технология HELIOS позволяет получать в три раза более тонкие слои покрытий, что открывает множество новых возможностей. Например, потери на рассеяние и поглощение в покрытиях, наносимых с помощью HELIOS, снижены до 10–100 частей на миллион приходящих фотонов, что особенно важно при изготовлении миниатюрных высокочувствительных датчиков.
Установка реактивно-ионного травления "Плазма ТМ 8"
(ОАО "Научно-исследовательский институт точного машиностроения", Зеленоград)
Установка реактивно-ионного травления "Плазма ТМ 8" предназначена для травления алюминиевой металлизации в хлорсодержащей плазме, а также тонких слоев металлов (Au, Pt, Ti и др.), диэлектриков (SiO2, SiN и др.), кремния (Si, a-Si, поли-Si) и материалов группы A3B5 (GaAs, InP, GaN и др.).
Для проведения процессов травления алюминиевой металлизации в хлорной плазме внутренняя поверхность камеры анодирована, а на электроде-подложкодержателе расположена керамическая накладка. Для работы в хлорной среде в установке используется сухая химически стойкая система откачки. С целью защиты от высаживания полимеров стенки реакторной камеры нагреваются до 50–70 °С.
Транспортная система предусматривает шлюзование кассеты и поштучную загрузку / выгрузку пластин с использованием манипулятора. Установка позволяет работать с пластинами диаметром до 100 мм включительно, также возможно изготовление модификации для пластин диаметром 150 мм.
Микропроцессорная система включает элементы для управления работой установки в автоматическом и наладочном режимах, задания и контроля последовательности работы систем в соответствии с циклограммой, записи параметров технологического процесса.
Благодаря автоматизированной загрузке пластин из кассеты в кассету, "Плазма ТМ 8" эффективна не только в мелкосерийном, но и в серийном производстве полупроводниковых приборов.
Установка плазмохимического осаждения / травления
"НИКА-2014" (ООО "Лаборатория вакуумных технологий плюс", Зеленоград)
Шлюзовые плазмохимические установки "НИКА" для травления или осаждения в среде высокоплотной плазмы реализуют следующие технологии:
• анизотропное травление кремния с высоким аспектным отношением;
• сверхскоростное анизотропное травление кварца (до 6 мкм/мин);
• прецизионное травление светодиодных приборов на основе нитрида галлия с лазерным контролем глубины;
• прецизионное травление эпитаксиальных структур полупроводниковых лазеров с лазерным контролем глубины травления и управляемым профилем.
Установка оснащается радиочастотным генератором плазмы РПГ-250, охлаждаемым или нагреваемым столом с гелиевым теплоотводом, магнитной системой специальной конфигурации, обеспечивающей равномерность обработки ±2% при диаметре пластин 200 мм, согласующим устройством "СУРА". Размер рабочей камеры – 350 Ч 300 мм. Габариты установки – 1 200 Ч 850 Ч 1 500 мм, масса – 300 кг. "НИКА-2014"
выпускается в конфигурациях для плазмохимического травления (ПХТ) и плазмохимического осаждения (ПХО).
"НИКА-2014 ПХТ" осуществляет травление микроструктур для полупроводниковых производств, MEMS, оптики. Скорость травления кремния и GaAs – до 40 мкм/мин, SiO2 – до 6 мкм/мин. Реализуется глубокое травление кремния с вертикальным профилем стенок и большим аспектным отношением. В состав "НИКА-2014 ПХТ" входят генератор плазмы РПГ-250, охлаждаемый стол (гелиевый теплоотвод) с подачей высокочастотного смещения, а также оптическая система контроля скорости и глубины травления.
"НИКА-2014 ПХО" предназначена для плазмохимического осаждения диэлектриков (SiO2, SiN, αCH), металлов и металлоорганических соединений при оптическом контроле скорости и толщины пленки. В состав "НИКА-2014 ПХО" входят генератор плазмы РПГ-250, охлаждаемый или нагреваемый стол с гелиевым теплоотводом, а также система газораспределения для равномерного осаждения.
Источник питания для магнетронного распыления IMPULSE HiPIMS (ООО "ЭлекТрейд-М", Москва)
Источник питания серии IMPULSE HiPIMS – решение, предназначенное для нанесения тонкопленочных покрытий методом магнетронного распыления импульсами высокой мощности (HiPIMS). Он предназначен для НИОКР и может быть интегрирован в любую систему напыления.
IMPULSE HiPIMS обеспечивает выходную мощность до 2кВт и предлагается как в одиночной, так и в двойной конфигурации. Двойная конфигурация позволяет совмещать питание двух независимых источников мощностью до 2 кВт каждый для совместного осаждения. Частоты импульсов до 2 кГц обеспечивают высокую скорость осаждения при более коротких импульсах. Другой вариант применения двойной конфигурации источника IMPULSE HiPIMS – совмещение выходов, что обеспечивает суммарную выходную мощность до 4 кВт. Оба блока могут быть установлены в режимы Master (ведущий) или Slave (ведомый). Данная конфигурация улучшает регулировку и обеспечивает дополнительным запасом тока, подаваемого на подложку.
IMPULSE HiPIMS подходит для магнетронов диаметром 2, 3 и 4 дюйма. Управление может осуществляться как с передней панели, так и пультом дистанционного управления с использованием до пяти выбираемых пользователем профилей настроек.
Основными преимуществами источников питания IMPULSE HiPIMS являются высокая плотность пленки, равномерность покрытия, высокая скорость осаждения, отсутствие перераспыления, превосходная воспроизводимость и масштабируемость, возможность одновременной работы с RF-магнетроном.
Характеристики IMPULSE HiPIMS:
• напряжение до 1 000 В, импульсный ток до 400 А, ток в режиме смещения подложки до 200 А, диапазон регулирования частоты до 2кГц;
• регулируемая ширина импульса, частоты и пикового тока;
• индикация и управление в режиме реального времени напряжением и током разряда;
• импульсы менее 10 мкс (минимальное время включения / выключения – 2 мкс);
• питание с интегрированной обратной связью;
• обнаружение дуги и технология ее подавления;
• управление с сенсорного экрана;
• синхронизация блоков в режимах "ведущего" и "ведомого";
• интерфейс Ethernet для удаленной работы;
• обновляемое программное обеспечение.
Сверхпроводящие катушки электромагнитной системы установок токамак (ООО "Группа компаний машиностроения и приборостроения", Москва)
Техническое перевооружение экспериментальной термоядерной установки токамак Т-15 предусматривает модернизацию электромагнитной системы и вакуумной камеры с внутрикамерными элементами, сооружение дивертора в вакуумной камере, создание новой системы формирования и управления вытянутой конфигурацией плазмы, а также повышение функциональности и надежности технологических систем путем частичного обновления автоматизированной системы управления. Модернизированная установка будет вписана в существующую инфраструктуру Института физики токамаков и будет использовать технологическое оборудование установок Т-10 и Т-15. Система полоидальных полей обеспечит реализацию режимов с сепаратрисой и полоидальным дивертором.
В модернизированной установке Т-15 будут использованы системы дополнительного нагрева плазмы мощностью не менее 15 МВт, обеспечивающие нагрев как ионной (8–10 МВт), так и электронной (6 МВт, 110–120 ГГц) компонент. Также будут созданы системы дополнительного нагрева плазмы с применением ионно-циклотронного и нижнегибридного нагрева и предусмотрено оснащение установки диагностическим комплексом. Установка рассчитана на срок эксплуатации не менее 10 лет. Число рабочих импульсов – не менее 50 тыс.
Устранение выявленной течи по металлу на внешней поверхности изделия без сброса вакуума (АО "Криогенмонтаж", Москва)
Значительное время затрачивается на устранение выявленных течей порядка 1 000 л · мкм рт ст./с и менее после вакуумирования изделия с порошковой и экранно-вакуумной изоляцией, так как для этого требуются сброс вакуума в изделии, устранение течи, повторное вакуумирование и проверка изделия на герметичность обдувом гелием с контролем течеискателем. Компания "Криогенмонтаж" разработала технологию устранения течи без сброса вакуума. ■
Линейка диффузионных вакуумных насосов DiJ
(АО "Вакууммаш", Казань)
Диффузионные насосы нового поколения способны устойчиво работать и обеспечивать максимальный поток откачиваемого газа при входном давлении 1 · 10–3 мм рт. ст. Линейка диффузионных вакуумных насосов будет включать следующие типоразмеры: 10, 16, 20, 35 дюймов и 320, 500, 630, 1 000 мм. Уже выпускаются насосы DiJ 20 и DiJ 630, разработан и проходит испытания насос DiJ 35.
В насосах DiJ использованы геометрия котла, позволяющая применять минимальное количество рабочей жидкости, а также новая конструкция устройства для залива и слива рабочей жидкости. Замена нагревательных элементов может выполняться непосредственно на месте установки насоса. Предусмотрен визуальный контроль уровня рабочей жидкости в котле насоса. Опытные образцы всей линейки насосов DiJ планируется изготовить в 2017 году с последующим освоением серийного производства.
Турбомолекулярный насос Edwards nEXT85
(АО "Интек Аналитика", Санкт-Петербург)
Турбомолекулярный насос nEXT85 сконструирован на основе технологий, опробованных в модели EXT75DX, что позволило значительно повысить производительность при более компактном исполнении. Ротор был заново спроектирован для достижения лучших показателей быстродействия и более высокого коэффициента компрессии. При этом удалось сохранить высокий уровень надежности оборудования.
Помимо улучшенной производительности, nEXT85 обладает такими же преимуществами, как и крупногабаритные насосы серии nEXT, а именно возможностью сервисного обслуживания на месте работы и наличием встроенного контроллера.
Особенности nEXT85:
• высокая производительность при компактном исполнении;
• доступность как стандартной модели, так и модели "H" с высоким коэффициентом компрессии;
• увеличенный рабочий диапазон за счет запатентованной Edwards технологии прямого измерения температуры рабочего колеса;
• выбор положения промежуточного и выпускного порта на усмотрение заказчика, что обеспечивает дополнительную гибкость при работе;
• четырехлетний период сервисного обслуживания с возможностью его проведения на месте эксплуатации;
• амортизированный плоской пружиной шарикоподшипник обеспечивает низкий уровень вибраций;
• насосы со встроенным контроллером оснащены портом microUSB и программным обеспечением EdwardsnST, что позволяет выполнять мониторинг, контроль и конфигурацию оборудования;
• доступность комплекта специализированных принадлежностей.
Течеискатель гелиевый Shimadzu MSE-2200S (ГК "Криосистемы", Москва)
Гелиевый течеискатель MSE-2200S представляет собой газоанализатор с электронной и откачной системами, размещенными в едином корпусе. Система откачки состоит из высоковакуумного турбомолекулярного насоса (70 л/с) и пластинчато-роторного насоса (30 л/мин).
Течеискатель MSE-2200S укомплектован уникальным газоанализатором с поворотом пучка на 270° для достижения сверхвысокого уровня чувствительности 1 · 10–13 Па · м3/с [He] и низкого фонового шума, а также специально разработанным турбомолекулярным насосом с быстротой действия 3 л/с по гелию на входном фланце во всем диапазоне давлений.
Стабильный фоновый уровень в MSE-2200S достигается сразу же после включения в результате точного отделения молекул воды и водорода от молекул гелия. Быстрое восстановление работоспособности после возникновения высокого фонового уровня (в частности, большой утечки) достигается за счет оригинальной схемы включения специального гибридного насоса с промежуточным вводом потока между турбомолекулярной и молекулярной ступенями.
Все течеискатели Shimadzu работают в режиме противотока, благодаря чему обеспечиваются низкий фоновый уровень, отсутствие попадания загрязнений в трубку анализатора, а также защита в случае прорыва атмосферы. Течеискатель может комплектоваться беспроводным пультом управления, щупами (скорость отклика 3 или 1 с), тележкой для перемещения и другими опциями.
Вакуумная арматура KF (ООО "Вактрон", Санкт-Петербург)
Специалисты компании "Вактрон" начали производство в Санкт-Петербурге вакуумной арматуры стандарта ISO KF. Изготавливаются такие элементы, как центрирующие кольца, заглушки, угловые патрубки, фланцы под cварку, адаптеры, тройники, кресты и переходники на другие стандарты.
Вся продукция проверяется на герметичность с помощью гелиевого масс-спектрометрического течеискателя специалистами, аттестованными согласно ПБ 03-440-02. Заключение о проверке на герметичность можно получить на каждое изделие, что гарантирует главное свойство вакуумной арматуры – способность изолировать рабочий объем от проникания атмосферных газов.
Расположение производства в Санкт-Петербурге позволяет установить оптимальную цену на продукцию за счет отсутствия таможенных платежей. На складе производителя создан запас стандартных компонентов – вакуумных фланцев, тройников, патрубков. По запросу заказчика возможно оперативное изготовление вакуумных изделий специальной конструкции.
Вакуумная напылительная установка HELIOS
для изготовления датчиков (Бюлер Лейболд Оптикс, Москва)
С развитием интернет-коммуникации устройств –
так называемого "Интернета вещей" – растет необходимость в миниатюрных датчиках. Современная технология изготовления оптических датчиков заключается в производстве традиционных светофильтров на стекле, их нарезке и последующей наклейке на кремниевую пластину. Однако, качество, стабильность и эффективность, достижимые при таком методе, перестают удовлетворять растущим потребностям рынка. Поэтому эксперты "Бюлер Лейболд Оптикс" разработали и запатентовали технологический процесс нанесения фильтров непосредственно на кремниевые пластины. Зоны, в которых покрытия быть не должно, предварительно защищаются специальным составом, после чего в установке HELIOS на всю поверхность пластины наносится многослойное покрытие. Материалы распыляются в вакуумной камере магнетронным методом с ионно-плазменной поддержкой и осаждаются на подложке плотно упакованными слоями нанометровой толщины. Затем покрытие смывается с тех зон, где оно наносилось на защитный состав. Процесс может повторяться необходимое число раз. По окончании нанесения покрытия фильтры разделяются, оснащаются контактами и монтируются на печатные платы.
Если традиционные методы нанесения вакуумных покрытий обеспечивают толщину слоев не менее 10 нм, то технология HELIOS позволяет получать в три раза более тонкие слои покрытий, что открывает множество новых возможностей. Например, потери на рассеяние и поглощение в покрытиях, наносимых с помощью HELIOS, снижены до 10–100 частей на миллион приходящих фотонов, что особенно важно при изготовлении миниатюрных высокочувствительных датчиков.
Установка реактивно-ионного травления "Плазма ТМ 8"
(ОАО "Научно-исследовательский институт точного машиностроения", Зеленоград)
Установка реактивно-ионного травления "Плазма ТМ 8" предназначена для травления алюминиевой металлизации в хлорсодержащей плазме, а также тонких слоев металлов (Au, Pt, Ti и др.), диэлектриков (SiO2, SiN и др.), кремния (Si, a-Si, поли-Si) и материалов группы A3B5 (GaAs, InP, GaN и др.).
Для проведения процессов травления алюминиевой металлизации в хлорной плазме внутренняя поверхность камеры анодирована, а на электроде-подложкодержателе расположена керамическая накладка. Для работы в хлорной среде в установке используется сухая химически стойкая система откачки. С целью защиты от высаживания полимеров стенки реакторной камеры нагреваются до 50–70 °С.
Транспортная система предусматривает шлюзование кассеты и поштучную загрузку / выгрузку пластин с использованием манипулятора. Установка позволяет работать с пластинами диаметром до 100 мм включительно, также возможно изготовление модификации для пластин диаметром 150 мм.
Микропроцессорная система включает элементы для управления работой установки в автоматическом и наладочном режимах, задания и контроля последовательности работы систем в соответствии с циклограммой, записи параметров технологического процесса.
Благодаря автоматизированной загрузке пластин из кассеты в кассету, "Плазма ТМ 8" эффективна не только в мелкосерийном, но и в серийном производстве полупроводниковых приборов.
Установка плазмохимического осаждения / травления
"НИКА-2014" (ООО "Лаборатория вакуумных технологий плюс", Зеленоград)
Шлюзовые плазмохимические установки "НИКА" для травления или осаждения в среде высокоплотной плазмы реализуют следующие технологии:
• анизотропное травление кремния с высоким аспектным отношением;
• сверхскоростное анизотропное травление кварца (до 6 мкм/мин);
• прецизионное травление светодиодных приборов на основе нитрида галлия с лазерным контролем глубины;
• прецизионное травление эпитаксиальных структур полупроводниковых лазеров с лазерным контролем глубины травления и управляемым профилем.
Установка оснащается радиочастотным генератором плазмы РПГ-250, охлаждаемым или нагреваемым столом с гелиевым теплоотводом, магнитной системой специальной конфигурации, обеспечивающей равномерность обработки ±2% при диаметре пластин 200 мм, согласующим устройством "СУРА". Размер рабочей камеры – 350 Ч 300 мм. Габариты установки – 1 200 Ч 850 Ч 1 500 мм, масса – 300 кг. "НИКА-2014"
выпускается в конфигурациях для плазмохимического травления (ПХТ) и плазмохимического осаждения (ПХО).
"НИКА-2014 ПХТ" осуществляет травление микроструктур для полупроводниковых производств, MEMS, оптики. Скорость травления кремния и GaAs – до 40 мкм/мин, SiO2 – до 6 мкм/мин. Реализуется глубокое травление кремния с вертикальным профилем стенок и большим аспектным отношением. В состав "НИКА-2014 ПХТ" входят генератор плазмы РПГ-250, охлаждаемый стол (гелиевый теплоотвод) с подачей высокочастотного смещения, а также оптическая система контроля скорости и глубины травления.
"НИКА-2014 ПХО" предназначена для плазмохимического осаждения диэлектриков (SiO2, SiN, αCH), металлов и металлоорганических соединений при оптическом контроле скорости и толщины пленки. В состав "НИКА-2014 ПХО" входят генератор плазмы РПГ-250, охлаждаемый или нагреваемый стол с гелиевым теплоотводом, а также система газораспределения для равномерного осаждения.
Источник питания для магнетронного распыления IMPULSE HiPIMS (ООО "ЭлекТрейд-М", Москва)
Источник питания серии IMPULSE HiPIMS – решение, предназначенное для нанесения тонкопленочных покрытий методом магнетронного распыления импульсами высокой мощности (HiPIMS). Он предназначен для НИОКР и может быть интегрирован в любую систему напыления.
IMPULSE HiPIMS обеспечивает выходную мощность до 2кВт и предлагается как в одиночной, так и в двойной конфигурации. Двойная конфигурация позволяет совмещать питание двух независимых источников мощностью до 2 кВт каждый для совместного осаждения. Частоты импульсов до 2 кГц обеспечивают высокую скорость осаждения при более коротких импульсах. Другой вариант применения двойной конфигурации источника IMPULSE HiPIMS – совмещение выходов, что обеспечивает суммарную выходную мощность до 4 кВт. Оба блока могут быть установлены в режимы Master (ведущий) или Slave (ведомый). Данная конфигурация улучшает регулировку и обеспечивает дополнительным запасом тока, подаваемого на подложку.
IMPULSE HiPIMS подходит для магнетронов диаметром 2, 3 и 4 дюйма. Управление может осуществляться как с передней панели, так и пультом дистанционного управления с использованием до пяти выбираемых пользователем профилей настроек.
Основными преимуществами источников питания IMPULSE HiPIMS являются высокая плотность пленки, равномерность покрытия, высокая скорость осаждения, отсутствие перераспыления, превосходная воспроизводимость и масштабируемость, возможность одновременной работы с RF-магнетроном.
Характеристики IMPULSE HiPIMS:
• напряжение до 1 000 В, импульсный ток до 400 А, ток в режиме смещения подложки до 200 А, диапазон регулирования частоты до 2кГц;
• регулируемая ширина импульса, частоты и пикового тока;
• индикация и управление в режиме реального времени напряжением и током разряда;
• импульсы менее 10 мкс (минимальное время включения / выключения – 2 мкс);
• питание с интегрированной обратной связью;
• обнаружение дуги и технология ее подавления;
• управление с сенсорного экрана;
• синхронизация блоков в режимах "ведущего" и "ведомого";
• интерфейс Ethernet для удаленной работы;
• обновляемое программное обеспечение.
Сверхпроводящие катушки электромагнитной системы установок токамак (ООО "Группа компаний машиностроения и приборостроения", Москва)
Техническое перевооружение экспериментальной термоядерной установки токамак Т-15 предусматривает модернизацию электромагнитной системы и вакуумной камеры с внутрикамерными элементами, сооружение дивертора в вакуумной камере, создание новой системы формирования и управления вытянутой конфигурацией плазмы, а также повышение функциональности и надежности технологических систем путем частичного обновления автоматизированной системы управления. Модернизированная установка будет вписана в существующую инфраструктуру Института физики токамаков и будет использовать технологическое оборудование установок Т-10 и Т-15. Система полоидальных полей обеспечит реализацию режимов с сепаратрисой и полоидальным дивертором.
В модернизированной установке Т-15 будут использованы системы дополнительного нагрева плазмы мощностью не менее 15 МВт, обеспечивающие нагрев как ионной (8–10 МВт), так и электронной (6 МВт, 110–120 ГГц) компонент. Также будут созданы системы дополнительного нагрева плазмы с применением ионно-циклотронного и нижнегибридного нагрева и предусмотрено оснащение установки диагностическим комплексом. Установка рассчитана на срок эксплуатации не менее 10 лет. Число рабочих импульсов – не менее 50 тыс.
Устранение выявленной течи по металлу на внешней поверхности изделия без сброса вакуума (АО "Криогенмонтаж", Москва)
Значительное время затрачивается на устранение выявленных течей порядка 1 000 л · мкм рт ст./с и менее после вакуумирования изделия с порошковой и экранно-вакуумной изоляцией, так как для этого требуются сброс вакуума в изделии, устранение течи, повторное вакуумирование и проверка изделия на герметичность обдувом гелием с контролем течеискателем. Компания "Криогенмонтаж" разработала технологию устранения течи без сброса вакуума. ■
Отзывы читателей
