sitemap
Наш сайт использует cookies и Яндекс Метрику. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей
Политикой Конфиденциальности
Согласен
главная
eng
Поиск:
на сайте журнала
на всех сайтах РИЦ
Вход
Архив журнала
Журналы
Медиаданные
Редакционная политика
Реклама
Авторам
Контакты
© 2001-2026
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта
R&W
ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)
Книги по нанотехнологиям
Статьи
Наноиндустрия #3-4/2026
ПЕРВОЕ В МИРЕ НАБЛЮДЕНИЕ ИЗМЕНЕНИЯ НАНОСТРУКТУРЫ ПОВЕРХНОСТИ МАТЕРИАЛА, С КОСМИЧЕСКОЙ СКОРОСТЬЮ ВСТРЕЧАЮЩЕГО АТМОСФЕРУ В ПРОЦЕССЕ ПАДЕНИЯ НА ЗЕМЛЮ
Наноиндустрия #2/2026
ТОНКИЕ ПЛЕНКИ ОКСИДОВ ДЛЯ ЛАЗЕРНЫХ ЗЕРКАЛ
Новости
//
все новости
24.07.2026
Участникам Российского форума «Микроэлектроника 2026» предоставляется возможность повысить свою профессиональную квалификацию
17.07.2026
В центре внимания – двумерные материалы для микроэлектроники
События
//
все события
до 21.10.2026
26-я Международная выставка оборудования для неразрушающего контроля NDT Russia 2026. г. Москва
c 16.09.2026 до 18.09.2026
19-я международная специализированная выставка «Термообработка – 2026». г. Москва
Вход:
Ваш e-mail:
Пароль:
- запомнить меня
Регистрация
Забыли пароль?
Архив журнала:
2026
2025
2024
2023
2022
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2010
2009
2008
2007
Медиаданные:
О журнале
О публикациях
Предметная область и рубрикатор
Редакционная коллегия
Редакционный совет
Распространение
Учредитель
Издатель
План издания
Редакционная политика:
Редакционная политика РИЦ «ТЕХНОСФЕРА»
Редакционная политика журнала "НАНОИНДУСТРИЯ"
Реклама:
В журнале
На сайте
Отдел рекламы
Авторам:
Стратегия оформления
Наукометрия
Соискателям учёной степени
Требования к статьям и рецензирование
Контакты:
Распространение
Адрес
Редакция
Соцсети
Журналы:
Электроника НТБ
Наноиндустрия
Первая миля
Фотоника
Аналитика
Станкоинструмент
Книги по нанотехнологиям
читать книгу
Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А.
Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок
читать книгу
Суминов И.В., Белкин П.Н., Эпельфельд А.В., Людин В.Б., Крит Б.Л., Борисов A.M.
Плазменно-электролитическое модифицирование поверхности металлов и сплавов. В 2-х томах. Т.1
читать книгу
Берлин Е.В., Сейдман Л.А.
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Другие серии книг:
Мир материалов и технологий
Библиотека Института стратегий развития
Мир квантовых технологий
Мир математики
Мир физики и техники
Мир биологии и медицины
Мир химии
Мир наук о Земле
Мир электроники
Мир программирования
Мир связи
Мир строительства
Мир цифровой обработки
Мир экономики
Мир дизайна
Мир увлечений
Мир робототехники и мехатроники
Для кофейников
Мир радиоэлектроники
Библиотечка «КВАНТ»
Умный дом
Мировые бренды
Вне серий
Библиотека климатехника
Мир транспорта
Мир фотоники
Мир станкостроения
Мир метрологии
Мир энергетики
Книги, изданные при поддержке РФФИ
Тег "сапр"
Наноиндустрия #9/2018
Лебедев Сергей Валентинович, Петросянц Константин Орестович, Стахин Вениамин Георгиевич, Харитонов Игорь Анатольевич
Особенности моделирования субмикронных МОП- транзисторов для расчета низковольтных и микромощных КМОП СБИС
Приведены требования к моделям, особенностям определения их параметров, пакетам схемотехнического моделирования при проектировании низковольтных и микромощных КМОП СБИС. Представлены результаты схемотехнического моделирования характеристик КМОП схемы (L = 0,35 мкм) 2И-НЕ при уменьшении напряжения питания от 0,7 до 0,3 В. Показана работоспособность (выполнение логических функций) указанных схем при наименьшем значении питания с соответствующим значительным снижением быстродействия. УДК 621.382.323: 536.48 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.412.414
Наноиндустрия #9/2018
Машевич Павел Романович, Кокин Сергей Александрович, Перминов Владимир Николаевич
Проблемы информационно-коммуникационного взаимодействия при проектировании радиационно- стойких изделий от элементной базы до конечных устройств на примере использования отечественной САПР
При разработке радиационно-стойкой радиоэлектронной аппаратуры (РЭА) необходимо ее моделирование с учетом воздействия специальных факторов. Рассмотрены информационно-коммуникационные взаимодействия при разработке модуля драйвера с применением отечественной системы схемотехнического моделирования. УДК 621.382, ББК 32.85 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.399.401
Наноиндустрия #9/2018
Мороз Ярослав Николаевич, Токарев Дмитрий Сергеевич
Особенности топологического планирования ядер высокопроизводительных процессоров семейства Эльбрус
В данной статье представлены некоторые методы по проектированию отдельных частей сложно-функциональных цифровых СБИС на уровне кристалла на примере проектирования ядер микропроцессоров семейства «Эльбрус». Отмечены особенности физического проектирования микропроцессоров с архитектурой «ELBRUS». УДК 004.3’142.22 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.103.109
Электроника НТБ #7/2017
Е.Чириков
Новые возможности Altium Designer 17.1 помогают ускорить работу над проектом
В новой версии популярной системы разработки Altium Designer 17.1 устранены проблемы и ошибки, обнаруженные пользователями, а также реализованы функции, направленные на оптимизацию процесса создания проектной документации и в целом ускорение работы над проектом. УДК 621.3.049 ВАК 05.27.00 DOI: 10.22184/1992-4178.2017.168.7.80.84
Электроника НТБ #3/2017
А.Сергеев
Программная платформа Mentor PADS – оптимальное соотношение возможностей и цены
Рассмотрены возможности и преимущества Mentor PADS – комплексной масштабируемой программной платформы для разработки печатных плат. Отмечено, что данная платформа обладает оптимальным соотношением цены, удобства и функциональности. DOI: 10.22184/1992-4178.2017.163.3.82.87 УДК 621.3.049 ВАК 05.27.00
Электроника НТБ #9/2016
Е.Чириков
Новые возможности проектирования печатных плат, или зачем пользователям P-CAD переходить на Altium Designer?
На смену популярной САПР для проектирования печатных плат P-CAD компания Altium предложила пакет инструментов Altium Designer, который обеспечивает сквозной цикл проектирования. В статье рассмотрены основные преимущества и ключевые особенности Altium Designer.
Электроника НТБ #7/2016
В.Эннс, Ю.Кобзев, И.Корепанов
Программируемая аналоговая МИКРОСХЕМАКОМПАС-1 (5400ТР035) – основные характеристики и особенности применения
Рассмотрена программируемая пользователем аналоговая интегральная схема (ПАИС) КомПАС-1 (5400ТР035), разработанная в компании "Дизайн Центр "Союз". Отмечено, что схемами на основе ПАИС КомПАС-1 можно заменить существенную часть схем обработки аналоговых сигналов.
Печатный монтаж #5/2016
В.Ежов
Как повысить эффективность разработки: новые возможности САПР от Cadence
В статье рассматриваются новые возможности инструментов проектирования компании Cadence, в частности, Allegro, OrCAD и Sigrity, которые позволяют повысить эффективность разработки электронного устройства
Электроника НТБ #1/2016
В.Ежов
САПР от Cadence: системный подход к проектированию печатных плат. По материалам семинара компании PCB SOFT
Официальный дистрибьютор Cadence – компания PCB SOFT, входящая в холдинг PCB technology, провела семинар в Санкт-Петербурге и Москве, посвященный применению средств проектирования компании Cadence.
Печатный монтаж #6/2015
Л.Прудникова, В.Мейлицев
ПРОЕКТИРОВАНИЕ ЭЛЕКТРОННЫХ МОДУЛЕЙ: ОБЩИЕ ПРИНЦИПЫ И РАСПРОСТРАНЕННЫЕ ОШИБКИ
Компании, не имеющие большого опыта в разработке электронных устройств, допускают ошибки в проектах, которые на этапе производства приводят к значительным потерям – временным, финансовым, имиджевым. Каковы наиболее типичные из этих ошибок, в чем их причины и на что нужно обратить внимание, чтобы их избежать?
←
1
2
3
4
5
6
7
→
Разработка: студия
Green Art