Наноиндустрия - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2026
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)

Книги по нанотехнологиям

Тег "гетероструктуры"

Первая миля #1/2026
С.C.Коган
Эволюция транспортных волоконно-оптических систем передачи. Часть 3. Преимущества пятого поколения волоконно-оптических транспортных сетей

DOI: 10.22184/2070-8963.2026.133.1.52.60 В цикле статей рассматриваются вопросы эволюции транспортных волоконно-оптических систем передачи (ВОСП), включая стандартизацию и основные направления развития технологий ВОСП (часть 1); особенности поколений транспортных ВОСП (часть 2); преимущества пятого поколения волоконно-оптических транспортных сетей (часть 3).

Электроника НТБ #2/2025
А. Кищинский, В. Миннебаев
РАДИОЭЛЕКТРОНИКА СВЧ – ДВИЖЕНИЕ ВПЕРЕД НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКАЯ КОНФЕРЕНЦИЯ «РЭСВЧ-2024». ЧАСТЬ 1

DOI: 10.22184/1992-4178.2025.243.2.42.48 В статье описаны перспективные разработки, представленные участниками конференции «РЭСВЧ-2024», приуроченной к 20-летию АО «Микроволновые системы». В первой части работы обобщены материалы двух секций. Доклады секции 1 посвящены современным технологиям изготовления СВЧ-транзисторов и МИС. На секции 2 обсуждались конструкции, параметры СВЧ-компонентов и вопросы их надежности.

Наноиндустрия #1/2023
К.А.Царик, О.Б.Чуканова, Е.А.Козловская
ОСОБЕННОСТИ КОНСТРУКЦИИ ГЕТЕРОСТРУКТУР ПРИ ПОСТРОЕНИИ GaN НОРМАЛЬНО ЗАКРЫТЫХ ТРАНЗИСТОРОВ ДЛЯ СИЛОВЫХ МОНОЛИТНЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ

DOI: https://doi.org/10.22184/1993-8578.2023.16.1.70.79 В статье рассмотрены ключевые зависимости характеристик нормально-закрытых транзисторов от параметров GaN гетероструктур. Определены толщины и концентрации легирующих примесей в слоях гетероструктуры. В результате моделирования получены вольтамперные характеристики р-канального полевого транзистора и n-канального транзистора с подзатворным слоем р-типа.

Электроника НТБ #6/2018
А. Туркин
Гетероструктуры на основе GaN в СВЧ-электронике: обзор работ

Приведен обзор ряда работ по применению GaN-гетероструктур и приборов на их основе в СВЧ-электронике. Отмечено, что исследования GaN-гетероструктур, которые достаточно активно ведутся в настоящее время, носят как фундаментально-научный, так и прикладной характер. DOI: 10.22184/1992-4178.2018.177.6.70.73 УДК 621.382 | ВАК 05.27.01

Наноиндустрия #9/2018
Певцов Евгений Филиппович, Беспалов Алексей Викторович, Буш Александр Андреевич, Голикова Ольга Львовна
Электрофизические свойства структур с тонкими пленками сегнетоэлектриков

Проведены комплексные исследования электрофизических свойств гетероструктур с тонкими пленками сегнетоэлектриков типа PbZr0,53Ti0,47O3 на Si и PbTiO3/YBa2Cu3O7–x на SrTiO3. Получены новые данные по вольт-фарадным характеристикам этих структур и проведены количественные оценки параметров физических моделей, описывающих процессы переключения поляризации и эффекты на границах между слоями. УДК 537.9+621.315.592.9 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.471.480

Электроника НТБ #3/2016
А.Алексеев, С.Иванов, С.Сорокин
Тандем отечественной науки и производства для решения перспективных задач оптоэлектроники

Представлено модернизированное оборудование для молекулярно-лучевой эпитаксии гетероструктур на основе широкозонных полупроводниковых соединений А2В6.

Электроника НТБ #10/2015
П.Мальцев
полупроводниковая СВЧ-электроника в России. Институт СВЧПЭ РАН – исследования и разработки

Деятельность Института связана с проведением фундаментальных и прикладных разработок в области сверхвысокочастотной (СВЧ) и крайне высокочастотной (КВЧ) полупроводниковой электроники.

Наноиндустрия #1/2011
А.Алексеев, Д.Красовицкий, С.Петров, В.Чалый.
Выращивание высокосовершенных гетероструктур III-N 20

ЗАО «НТО» (SemiTEq) – лидирующий российский производитель установок молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) для выращивания материалов в системах InAlGaN (III-N), InAlGaAs, широкозонных соединений А2В6, других гетероструктур. В работе представлены результаты по использованию для выращивания гетероструктур системы III-N специализированной установки МЛЭ STE3N2. Ее уникальные особенности – расширенный диапазон температур подложки (до 1200°С) и отношений V/III. На основе полученных гетероструктур созданы мощные полевые транзисторы с рекордными для России параметрами.